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装置開発室 分子研リポート2000 | 分子科学研究所

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Academic year: 2018

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(1)

研究系及び研究施設の現状 191

装置開発室

渡 辺 三千雄(助教授)

A -1)専門領域:装置開発

A -2)研究課題: a) 摩擦・摩耗

A -3)研究活動の概略と主な成果

a) B all on D isk 摩擦試験機を試作し、種々の材料および表面処理材について、摩擦係数と耐摩性を評価した。 b)構造材料に対する各種刃材の耐焼付・耐摩性を評価した。

C ) 研究活動の課題と展望

A -2)で述べた項目を逐次推進し、装置開発室の技術向上を図る。

(2)

192 研究系及び研究施設の現状

浅 香 修 治(助手)

*)

A -1)専門領域:量子エレクトロニクス、レーザー分光

A -2)研究課題:

a) 短波長域フェムト秒フォトンエコー

b) 放射光とレーザーを組み合わせたイオン結晶の分光 c) 内殻 - 価電子帯遷移を利用した光活性物質の開発

A -3)研究活動の概略と主な成果

a) 紫外∼真空紫外波長域に共鳴準位のある物質においてフェムト秒領域の位相緩和時間を測定するシステムを構築 中である。

b) 放射光およびそれと同期したパルスレーザー光を同時に用い,B aF 2 などアルカリハライドにおいて 2 光子分光を 行った。そのための高感度測定システムの開発も行った。

c) 内殻−価電子帯輻射遷移を示すイオン結晶において光増幅作用を初めて観測した。

C ) 研究活動の課題と展望

a)については真空紫外光用の Michelson 型干渉計を建設中である。b)については広い意味でのポンププローブ法を用い た新規測定手法を開発中である。c)については極端紫外光領域においてレーザー発振させうる方法を検討中である。

*) 2000年 4月 30日転出

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